图至图中公开的结构不限于这种方法,而且可以作为于该方法的结构而单独存在。的截面图所示,在衬底上方形成互连层a。在一些实施例中,通过在衬底上方形成层间介电(ild)层来形成互连层a。在一些实施例中,ild层可以通过一个或多个附加介电层与衬底分隔开。图案化ild层以限定沟槽。在一些实施例中,可以通过在ild层上方形成图案化的掩模层(未示出)并且实施蚀刻工艺来去除ild层的未由图案化的掩模层覆盖的各部分来图案化ild层。在沟槽内形成导电材料,以及随后是平坦化工艺(例如。化学机械平坦化工艺)以形成互连层a。在各个实施例中,衬底可以是任何类型的半导体主体(例如。硅、sige、soi等),诸如半导体晶圆和/或晶圆上的一个或多个管芯,以及任何与其相关的其它类型的半导体和/或外延层。在一些实施例中,ild层可以包括一种或多种介电材料,诸如二氧化硅(sio)、sicoh、氟硅酸盐玻璃、磷酸盐玻璃(例如,硼磷硅酸盐玻璃)等。在一些实施例中,导电材料可以包括通过沉积工艺(例如,cvd、pvd、pe-cvd、ald等)形成的金属(例如,钨、铝等)。在各个实施例中,互连层a可以是互连线层、互连层、第三互连线层或更高金属互连线层。的截面图所示。深圳市美信美科技有限公司,你的稳定集成电路供应商。长沙扁平形集成电路报价
本申请涉及一种集成电路封装结构,尤其是集成电路的小型化与高功率密度化的封装结构。背景技术:集成电路在满足摩尔定律的基础上尺寸越做越小。尺寸越小,技术进步越困难。而设备的智能化,小型化,功率密度的程度越来越高,为解决设备小型化,智能化,超高功率密度这些问题,不但需要提升各种功能的管芯的功能,效率,缩小其面积,体积;还需要在封装技术层面上完成小型化,集成化,高功率密度化等技术要求,并解决由此带来的集成电路的散热问题,生产工艺复杂,生产周期长,生产成本高等问题。现有很多集成电路封装结构,有沿用常规的封装方式,采用框架安装各种管芯,采用线材键合作电气联结,在功率较大时,常常采用较粗的键合线和较多的键合线。此类封装方式有比如ipm模组的dip封装,单颗mosfet的to220封装等,此类封装体积通常都比较大,不适宜小型化应用。由于需要多根键合线,键合工序周期长,成本高,从而导致总体性价比不高。而为了解决高功率密度的问题,qfn封装方式由于带有较大散热片常常在一些要求高功率密度的产品上得到广泛的应用;在qfn封装内部,键合线由金线,铜线,铝线转向具有大通流能力的铝片,铜片,并由此减少了接触电阻,降低了封装的寄生参数。太原大规模集成电路排名未来,随着国家产业政策扶持等宏观政策贯彻落实,国内集成电路产业将逐步发展壮大。
存储单元a,的工作mtj器件、调节mtj器件和调节mtj器件可以通过第四多个通孔d连接至第六互连层f。在其它实施例(未示出)中,一个或多个附加存储单元可以横向地布置为邻近存储单元a,。在一些这样的实施例中。存储器阵列内的存储单元可以在相同的互连层上彼此横向邻近布置。应当理解,图a至图b所示的集成芯片和可以实现图的存储器阵列的集成芯片的两个非限制性实施例,并且可以在可选实施例中使用其它实施方式。在一些实施例中,调节访问装置内的调节mtj器件可以具有相同的尺寸。在其它实施例中,调节访问装置内的调节mtj器件可以具有彼此不同的尺寸和/或与工作mtj器件不同的尺寸。例如,图a示出了具有调节访问装置的存储器电路的一些额外实施例的示意图,该调节访问装置包括具有不同尺寸的调节器件。存储器电路包括多个存储单元a,至c,,每个存储单元分别包括被配置为存储数据的工作mtj器件和被配置为选择性地对工作mtj器件提供访问的调节访问装置。调节访问装置包括连接至mtj器件的同一层的调节mtj器件和调节mtj器件。调节mtj器件连接在字线(例如,wl)和工作mtj器件之间,而调节mtj器件连接在字线(例如,wl)和工作mtj器件之间。工作mtj器件进一步连接至位线(例如,bl)。
图a至图b示出了具有调节访问装置的存储器电路的一些额外实施例,该调节访问装置被配置为选择性地对工作mtj器件提供访问。图a至图b示出了具有调节访问装置的存储器电路的一些额外实施例,该调节访问装置被配置为选择性地对工作mtj器件提供访问。图a至图b示出了具有调节访问装置的存储器电路的一些额外实施例,该调节访问装置被配置为选择性地对工作mtj器件提供访问。图至出了形成具有存储器电路的集成芯片的方法的一些实施例,该存储器电路包括存储单元,该存储单元包括被配置为选择性地对工作mtj器件提供访问的调节访问装置。出了形成具有存储器电路的集成芯片的方法的一些实施例的流程图,该存储器电路包括存储单元,该存储单元包括被配置为选择性地对工作mtj器件提供访问的调节访问装置。具体实施方式以下公开内容提供了许多用于实现所提供主题的不同特征的不同实施例或实例。下面描述了组件和布置的具体实例以简化。当然,这些是实例,而不旨在限制。例如,以下描述中,在部件上方或者上形成部件可以包括部件和部件直接接触形成的实施例。并且也可以包括在部件和部件之间可以形成额外的部件,从而使得部件和部件可以不直接接触的实施例。此外。集成电路现货供应商-深圳市美信美科技有限公司。
的实施例总体涉及半导体领域,更具体地,涉及集成电路及其形成方法。背景技术:许多现代电子器件包含配置为存储数据的电子存储器。电子存储器可以是易失性存储器或非易失性存储器。易失性存储器在上电时存储数据,而非易失性存储器能够在断开电源时存储数据。磁阻式随机存取存储器(mram)是用于下一代非易失性存储器技术的一种有前景的候选。技术实现要素:根据的一个方面,提供了一种集成芯片,包括:工作磁隧道结(mtj)器件,连接至位线,其中,所述工作磁隧道结器件被配置为存储数据状态;以及调节访问装置,连接在所述工作磁隧道结器件和字线之间,其中,所述调节访问装置包括被配置为控制提供给所述工作磁隧道结器件的电流的一个或多个调节磁隧道结器件。根据的另一个方面,提供了一种集成电路,包括:互连层,布置在衬底上方的介电结构内,其中,所述互连层通过所述介电结构与所述衬底分隔开;以及工作mtj器件,布置在所述互连层正上方并且被配置为存储数据状态,其中,所述工作mtj器件通过包括多个互连层且不延伸穿过所述衬底的连续导电路径电连接在位线和字线之间。根据的又一个方面,提供了一种形成集成电路的方法。包括:在衬底上方形成互连层。集成电路可以把很大数量的微晶体管集成到一个小芯片,是一个巨大的进步;惠州中规模集成电路IC
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字线解码器被配置为选择性地将信号施加至连接至存储器阵列的一条或多条字线wl至wl,并且位线解码器被配置成选择性地将信号施加至连接至存储器阵列的一条或多条位线bl至bl。通过选择性地将信号施加至一条或多条字线wl至wl和一条或多条位线bl至bl,可以在相互排斥的情况下选择性地访问多个工作mtj器件中的不同工作mtj器件。例如,图a至图b示出了图的存储器电路的写入操作的一些实施例的示意图和。示意图和所示的写入操作是实施写入操作的方法的非限制性实例。在其它实施例中,可以可选地使用实施写入操作的其它方法。图a至图b中示出的写入操作在步骤。图a所示)期间将数据状态写入至存储器阵列的一行中的一个或多个存储单元,并且在随后的步骤(图b所示)期间将数据状态写入至存储器阵列的该行中的一个或多个存储单元,以使用两步工艺将数据写入至存储器阵列的整个行。应该理解,为了将数据写入mtj器件。提供的通过mtj器件的电流必须大于切换电流(即,临界切换电流)。不大于切换电流的电流将不会导致电阻状态之间的切换,并且因此不会将数据写入存储器阵列内的mtj器件。在一些实施例中。公开的写入操作可以在调节mtj器件(例如,图中的至)处于高电阻状态来实施。长沙扁平形集成电路报价